[摘要]目的 比较3M纳米复合树脂和富士Ⅱ玻璃离子在修复龈上及龈下V类洞的临床效果差别。方法 选择2010年10月～2012年12月本院就诊患者患牙280颗，分龈上，龈下两组，使用两种修复材料修复，比较2年后的治疗效果。结果窝洞位于龈上时，两种材料的修复成功率均较高，达到88%以上；窝洞位于龈下时，用富士II玻璃离子组修复的成功率(78.1%)明显高于3M纳米树脂组(60.0%)，差异有统计学意义(P<0.05)。修复成功的病例中，3M纳米复合树脂组磨耗程度远低于富士II玻璃离子组。结论 当V类洞位于龈下时，选用富士Ⅱ玻璃离子充填效果优于3M纳米树脂，当V类洞位于龈上时，选用3M纳米树脂优于富士Ⅱ玻璃离子充填效果。

    [关键词]v类洞；3M纳米复合树脂；富士II玻璃离子；龈下龋坏

    根据G.V.Black分类方法，以龋损发生的部位为基础，V类洞是指所有牙齿唇(颊)或舌面颈1/3处的龋损所备成的窝洞。v类洞大多发生在牙齿的唇颊侧，发生的原因主要有楔状缺损引起的继发龋坏和釉质发育不全造成的继发龋坏。在临床上因不同原因制备的v类洞很常见。牙颈部为应力集中区，可至牙体组织发生疲劳，修复后也使充填材料产生疲劳，且窝洞位于龈缘或部分位于龈下，难以长时间控制血液、龈沟液渗出，这些都是造成充填物与牙面不密合，修复体边缘继发龋，脱落而造成治疗失败率高的原因。很多学者通过使用不同充填材料，或不同修复方法，来研究如何提高楔状缺损的修复效果。本研究将通过探讨3M纳米复合树脂材料与富士II玻璃离子材料对牙龈不同位置下v类洞的修复效果来分析治疗失败的原因 ......